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个人信息Personal Information
教授
性别：男
毕业院校：西安交通大学
学历：博士研究生毕业
学位：博士研究生毕业
在职信息：在岗
所在单位：微电子学院
入职时间：1982-01-01
学科：集成电路系统设计. 微电子学与固体电子学
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Effects of deep etching methods on the microstructure of the etched vias of the silicon-based SIWF
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所属单位：微电子学院
论文名称：Effects of deep etching methods on the microstructure of the etched vias of the silicon-based SIWF
发表刊物：Xi'an Dianzi Keji Daxue Xuebao/Journal of Xidian University
第一作者：Du, Lin ; Pu, Shi ; Shi, Yonggui ; Zhang, Jincheng ; Hao, Yue
论文编号：EI 20153501211702
卷号：42
期号：4
页面范围：41-46
是否译文：否
发表时间：2015-01-01
收录刊物：EI